Alvo Titanium engasgar da pureza alta 99,5% para o sistema de revestimento de Pvd

Detalhes do produto:
Lugar de origem: China
Marca: JINXING
Certificação: ISO 9001
Número do modelo: Alvo Titanium engasgar
Condições de Pagamento e Envio:
Quantidade de ordem mínima: 1 kg
Preço: 20~200USD/kg
Detalhes da embalagem: CASO DA MADEIRA COMPENSADA
Tempo de entrega: 10~25 dias do trabalho
Termos de pagamento: L/C, D/A, D/P, T/T, Western Union
Habilidade da fonte: 100000kgs/M

Informação detalhada

Material: Titânio que engasga o alvo Processo: CIP, pressão ANCA
Tamanho: Personalizado aplicação: sistema de revestimento do pvd
Forma: Círculo, placa, tubo Tamanho de grão: Tamanho de grão fina, boa densidade
Pureza:: 99,5%, 99。95% Densidade: 4.52g/cm3
Realçar:

Titânio da pureza alta 99

,

5% que engasga o alvo

,

tungstênio que engasga o alvo

Descrição de produto

Titânio que engasga o alvo 99,5%, os 99,95% D100x40mm, D65x6.35mm

A pureza é o índice principal do desempenho do material de alvo, porque a pureza do material de alvo tem uma grande influência no desempenho do filme.


Exigências de desempenho principais do material de alvo:


A pureza é o índice principal do desempenho do material de alvo, porque a pureza do material de alvo tem uma grande influência no desempenho do filme. Contudo, na aplicação prática, as exigências da pureza do alvo não são as mesmas. Por exemplo, com o desenvolvimento rápido da indústria da microeletrônica, o tamanho do chip de silicone esteve desenvolvido de 6", 8" a 12", quando a largura prendendo for reduzida de 0.5um a 0.25um, a 0.18um ou mesmo a 0.13um. Previamente, 99,995% da pureza do alvo podem cumprir as exigências do processo de 0.35um IC, quando a preparação da linha 0.18um exigir 99,999% ou mesmo 99,9999% da pureza do alvo.

 

As impurezas no sólido do alvo e no vapor do oxigênio e de água nos poros são as fontes principais da poluição. Os materiais de alvo diferentes têm exigências diferentes para o índice de impureza diferente. Por exemplo, o alumínio puro e os alvos da liga de alumínio para a indústria do semicondutor têm exigências diferentes para o índice alcalino e o índice do elemento radioativo.


A fim reduzir a porosidade no sólido do alvo e melhorar as propriedades de filmes engasgados, o alvo é exigido geralmente para ter um alto densidade. A densidade do alvo afeta não somente a taxa engasgar, mas igualmente afeta as propriedades elétricas e óticas do filme. Mais alta a densidade do alvo é, melhor o desempenho do filme é. Além, aumentar a densidade e a força do alvo pode fazer o alvo melhor suportar o esforço térmico no processo engasgar. A densidade é igualmente o índice do desempenho chave do alvo.


Geralmente, o material de alvo é estrutura policristalina, e o tamanho de grão pode ser do micrômetro ao milímetro. Para o mesmo tipo do alvo, a taxa engasgar do alvo com tamanho de grão pequeno é mais rápida do que aquela do alvo com grande tamanho de grão, quando a distribuição da espessura do filme depositado pelo alvo com diferença pequena do tamanho de grão (distribuição uniforme) for mais uniforme.

 

Titânio que engasga o alvo, titânio que engasga o alvo 99,95%

esteja disponível em tamanhos de variação

 

D100x40mm, D65x6.35mm etc.

 

Nome do produto Elemento Purirty ℃ do ponto de derretimento Densidade (g/cc) Formas disponíveis
Tira pura alta AG 4N-5N 961 10,49 Fio, folha, partícula, alvo
Alumínio puro alto Al 4N-6N 660 2,7 Fio, folha, partícula, alvo
Ouro puro alto Au 4N-5N 1062 19,32 Fio, folha, partícula, alvo
Bismuto puro alto Bi 5N-6N 271,4 9,79 Partícula, alvo
Cádmio puro alto CD 5N-7N 321,1 8,65 Partícula, alvo
Cobalto puro alto Co 4N 1495 8,9 Partícula, alvo
Cromo puro alto Cr 3N-4N 1890 7,2 Partícula, alvo
Cobre puro alto Cu 3N-6N 1083 8,92 Fio, folha, partícula, alvo
Ferro puro alto Fe 3N-4N 1535 7,86 Partícula, alvo
Germânio puro alto Ge 5N-6N 937 5,35 Partícula, alvo
Índio puro alto Em 5N-6N 157 7,3 Partícula, alvo
Magnésio puro alto Magnésio 4N 651 1,74 Fio, partícula, alvo
Magnésio puro alto Manganês 3N 1244 7,2 Fio, partícula, alvo
Molibdênio puro alto Mo 4N 2617 10,22 Fio, folha, partícula, alvo
Nióbio puro alto N.B. 4N 2468 8,55 Fio, alvo
Níquel puro alto Ni 3N-5N 1453 8,9 Fio, folha, partícula, alvo
Ligação pura alta Pb 4N-6N 328 11,34 Partícula, alvo
Paládio puro alto Paládio 3N-4N 1555 12,02 Fio, folha, partícula, alvo
Platina pura alta Pinta 3N-4N 1774 21,5 Fio, folha, partícula, alvo
Silicone puro alto Si 5N-7N 1410 2,42 Partícula, alvo
Lata pura alta Sn 5N-6N 232 7,75 Fio, partícula, alvo
Tântalo puro alto Ta 4N 2996 16,6 Fio, folha, partícula, alvo
Telúrio puro alto Te 4N-6N 425 6,25 Partícula, alvo
Titânio puro alto Si 4N-5N 1675 4,5 Fio, partícula, alvo
Tungstênio puro alto W 3N5-4N 3410 19,3 Fio, folha, partícula, alvo
Zinco puro alto Zn 4N-6N 419 7,14 Fio, folha, partícula, alvo
Zircônio puro alto Zr 4N 1477 6,4 Fio, folha, partícula, alvo

 

 

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